第281章 光刻机难关(2/2)

这只是光刻机项目遇到的普通难关，李浩觉得随着时间的发展，这些问题早晚会得到解决。

最为棘手的问题就是光栅材料问题。现在郭建濯已经研发出稳定的光栅。

但是它有一个特点，必须在曝光之后，短时间内控制光栅内部的晶体结构发生变化。

这需要极为精细的电流激发，解决晶体结构产生的问题，这对控制系统要求很高。

如果不成功，无法解决光栅内部晶体结构的影响，那它控制光路径的效果也随之失效，整个芯片就无法完成加工。

王容哲听到冯凯说完，他突然插话道：“这几个问题解决方法很简单。至于困扰你们这么长时间。”